Applicatio materiae nitridae siliconis ceramicae
2021-07-13
Silicon nitrides ceramicae materiae altam stabilitatem scelerisque habent, resistentiam oxidationis validam, et altam et optimam functiones commoditatis norma accurationis. Cum nitride siliconis com- plicata est covalens cum magna vi vinculi et oxydatum tutelae cinematographici in aere formare potest, etiam praestantem stabilitatem chemicam habet. Non oxidized infra 1200°C. Formatio pelliculae tutelariae ad 1200~1600°C potest ulterius impedire oxidizari et non humectari vel corrodere per plura metalla fusilia vel mixturas sicut aluminium, plumbum, stanno, argentum, aes, nickel, etc. exedi per magnesium fusile, chromium nickel-hyacintum, chalybem immaculatum et alia metalla fusilia. Pii calefactio elementum nitridum
Silicon nitrides ceramicae materiae adhiberi potest ad machinationem machinarum summus temperaturarum, materias refractorias in industria metallurgicae provectae, componentium anti- corrosionum et partium signandi in industria chemicis, instrumentis et instrumentis secandis in machinis industria, etc.
Cum nitride pii nitride validam connexionem cum carbide pii, aluminio oxydatu, thorio dioxide, nitride boron etc. formare possunt, uti contactu materiae ad modificationem cum diversis proportionibus adhiberi potest.
Praeterea, nitride siliconis in cellulis solaris adhiberi potest. Post cinematographicum pii nitride per modum PECVD inauratum, adhiberi potest non solum ut cinematographica reflexio ad reducendam reflexionem lucis incidentis, sed etiam, in depositione cinematographici siliconis, reactionem producti hydrogenii atomi intrant. nitride cinematographica siliconis sicut in chip siliconis, agit in defectibus passivis. Proportio nitridis numeri siliconis ad atomos siliconis hic gravis non est 4:3, sed non est firma intra certum quendam secundum diversas condiciones technicas, et physicae proprietates cinematographici diversis rationibus atomicis respondentes diversae sunt. .
Usus est in ultra-caliditate caliditas gasorum turbines, machinamenta aircraft, fornaces electricas, etc.
Silicon nitrides ceramicae materiae adhiberi potest ad machinationem machinarum summus temperaturarum, materias refractorias in industria metallurgicae provectae, componentium anti- corrosionum et partium signandi in industria chemicis, instrumentis et instrumentis secandis in machinis industria, etc.
Cum nitride pii nitride validam connexionem cum carbide pii, aluminio oxydatu, thorio dioxide, nitride boron etc. formare possunt, uti contactu materiae ad modificationem cum diversis proportionibus adhiberi potest.
Praeterea, nitride siliconis in cellulis solaris adhiberi potest. Post cinematographicum pii nitride per modum PECVD inauratum, adhiberi potest non solum ut cinematographica reflexio ad reducendam reflexionem lucis incidentis, sed etiam, in depositione cinematographici siliconis, reactionem producti hydrogenii atomi intrant. nitride cinematographica siliconis sicut in chip siliconis, agit in defectibus passivis. Proportio nitridis numeri siliconis ad atomos siliconis hic gravis non est 4:3, sed non est firma intra certum quendam secundum diversas condiciones technicas, et physicae proprietates cinematographici diversis rationibus atomicis respondentes diversae sunt. .
Usus est in ultra-caliditate caliditas gasorum turbines, machinamenta aircraft, fornaces electricas, etc.
Antecedens:Cautiones ad usum currus meridiem plugs
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy